Peeling chimic Sesderma®

Aparatul Peeling chimic Sesderma® este un produs SESDERMA

GLICOPEEL® - ACIZI GLICOLICI LIBERI

Fotoîmbătrânire, pistrui şi melasmă, acnee 

PROPRIETĂŢILE ACIDULUI GLICOLIC

Acidul glicolic (AG) este una dintre cele mai des folosite substanţe chimice în peeling-ul chimic superficial. Acest AHA produce o gamă de alterări complete sau parţiale în epiderma şi stratul papilar al dermei. 

Procedura generează modificări la nivelul pielii prin stimularea proliferării epidermale, distrugând anumite straturi de piele alterată sau inducând reacţii inflamatorii nu foarte cunoscute. 

După câteva aplicări ale acestui tip de peeling chimic, se pot observa modificări ale pielii, precum noi depozite de colagen şi creşterea GAG-lor în derma papilară, ajutând la repararea daunelor solare cutanate. 

Acidul glicolic este foarte solubil în apă şi are molecule de dimensiuni mici. Aceste două calităţi îi conferă o capacitate mai mare de penetrare a epidermei. În unele cazuri poate cauza iritaţii uşoare.  

Acid glicolic liber

ACID GLICOLIC 25%

Compoziţie (fără inhibitor): 25% acid glicolic liber

Compoziţie (cu inhibitor): 25% acid glicolic liber şi clorură de strontiu 

ACID GLICOLIC 50%

Compoziţie (fără inhibitor): 50% acid glicolic liber

Compoziţie (cu inhibitor): 50% acid glicolic liber şi clorură de strontiu 

ACID GLICOLIC 70%

Compoziţie (fără inhibitor): 70% acid glicolic liber

Compoziţie (cu inhibitor): 70% acid glicolic liber şi clorură de strontiu 

EFECTE  

Efectul acestor peeling-uri chimice poate fi rezumat în doi paşi: 

+ prin exfoliere se îndepărtează celulele moarte şi se stimulează reînnoirea celulară

+ epidermoliza distruge celulele epidermei.